Oxidation av metaller är ett vanligt problem som kan leda till korrosion och andra skador. Ett sätt att förhindra oxidation är att skapa ett skyddande lager av oxid på ytan av metallen. Detta kan dock vara svårt att uppnå på vissa ytor, till exempel de med atomhöga steg.
En nyligen genomförd studie av forskare vid University of Cambridge har avslöjat hur atomhöga steg kan hindra oxidation av metallytor. Studien, publicerad i tidskriften Nature Materials, använde en kombination av mikroskopitekniker för att avbilda ytan av en metalloxidfilm när den växte på en metallyta.
Forskarna fann att de atomhöga stegen fungerade som barriärer för tillväxten av oxidfilmen. Detta beror på att stegen skapar en högre energibarriär för syreatomerna att övervinna för att nå metallytan. Som ett resultat växer oxidfilmen långsammare på den avtrappade ytan än på en plan yta.
Denna upptäckt kan få viktiga konsekvenser för utvecklingen av nya material som är resistenta mot oxidation. Genom att förstå hur atomhöga steg kan hindra oxidation, kan forskare kanske designa material som är mer hållbara och håller längre.
Studien leddes av Dr James Dynes, en forskare vid institutionen för materialvetenskap och metallurgi vid University of Cambridge. Dr. Dynes sa:"Våra resultat ger nya insikter om mekanismerna för oxidation på metallytor. Detta kan leda till utvecklingen av nya material som är mer motståndskraftiga mot korrosion och andra former av skador."
Studien finansierades av European Research Council.
