Ett samarbete mellan CNM:s Electronic &Magnetic Materials &Devices Group och Argonnes Energy Systems Division har lett till ett helt nytt sätt att tillverka både två- och tredimensionella funktionella nanomaterial.

Deras tillvägagångssätt kombinerar självmontering av blocksampolymer med den självbegränsande och selektiva processen för avsättning av atomskikt.

Genom att välja lämplig polymer- och depositionsprekursorkemi, mycket selektiv avsättning kan uppnås där det oorganiska materialet växer inom endast ett av polymerblocken.

Genom rationell design av blocksampolymerer och val av avsättningsparametrar, mönstrade designermaterial med kontrollerad storlek, mellanrum, symmetri, och sammansättning kan syntetiseras.

Potentiella tillämpningar för denna metod sträcker sig till praktiskt taget alla tekniker där periodiska nanomaterialstrukturer är önskvärda.