Ett team ledd av forskare från Koç University, Turkiet och EPFL, Schweiz, har utvecklat en monolitisk teknik för att tillverka nanotrådar av kisel som spänner över ultradjupa diken i kisel.

Tillvägagångssättet liknar en extrem, nanoskala version av SCREAM-processen utvecklad i början av 90-talet för MEMS-tillverkning. Den här nya tillverkningstekniken bygger på att "skära" nanotrådar av kisel i en bit kiselkristall så att nanotrådarna är helt integrerade med andra kiselstrukturer som är tusentals gånger större. Minsta nanotrådsdimension är i storleksordningen 20 nm och nanotrådar liknar upphängda kablar som hänger ett avstånd på 10 mikrometer från rännans botten med utrymme för ytterligare förbättring av etsdjupet.

Tekniken bygger på en intrikat balans mellan två olika plasmaetsningsprocesser. När den första processen skapar nanoskalakomponenten, den efterföljande processen är ansvarig för etsning av djupa diken. Skydd av miniatyrbron, nanotråden, under denna hårda djupa etsning är avgörande för framgången för tekniken.

Den tilltalande aspekten av denna top-down-teknik är att nanotrådarna och strukturerna i mikroskala formas samtidigt vilket möjliggör tillverkning på plats utan att behöva bära, manipulera och "limma" nanotrådarna till önskad plats. På så sätt är varje nanotråd av kisel perfekt anpassad med avseende på den omgivande arkitekturen. Därav, man kan bilda miljontals sådana broar parallellt. Tekniken öppnar för möjligheten att överbrygga mycket tjocka strukturer med mycket tunna kanaler. Det förväntas hitta tillämpningar speciellt i SOI MEMS-sensorer.